دو شرکت «آی بی ام» و «اینتل» در تحقیقاتی جداگانه و تقریبا همزمان، به یکی از مهمترین پیشرفتهای حاصل شده در زمینه تولید تراشه های رایانه ای در چهار دهه اخیر دست یافته اند.

کشف اخیر می تواند سبب ادامه روند ریزتر شدن و قدرتمندتر شدن تراشه های رایانه ای شود و این نگرانی را که تراشه های رایانه ای در حال نزدیک شدن به حد نهایی خود از لحاظ ظرافت هستند، برای سالهای آینده برطرف کند.در فناوری جدید ابداع شده توسط شرکتهای «آی بی ام» و «اینتل»، به جای عنصر «سیلیکون» از ماده جدیدی به نام فلز «هافنیوم»(Hafnium) برای تنظیم جریان برق درون ترانزیستورها استفاده می شود. ترانزیستورها «سوییچ»های ریزی درون تراشه ها هستند که وظیفه قطع و وصل جریان برق را بر عهده دارند.«گاردن مور» یکی از موسسان شرکت «اینتل» در دهه 60میلادی قانونی را به نام قانون «مور» بیان کرد که در آن ذکر شده بود با توجه به پیشرفت مداوم فناوری های ساخت تراشه های رایانه ای، تعداد ترانزیستورهای به کار رفته درون تراشه ها تقریبا هر دو سال یک بار، دو برابر می شود.این قانون از زمان مطرح شدن در دهه شصت تاکنون همواره صدق کرده و تعداد ترانزیستورهای گنجانده شده درون تراشه های جدید دایما افزایش یافته است اما در سالهای اخیر شرکتهای سازنده تراشه ها در جهت تداوم این روند با محدودیتهایی مواجه شده بودند. هم اکنون کشف اخیر دو شرکت «آی بی ام» و «اینتل» صحت قانون معروف «مور» را برای سالهای آینده تضمین می کند و این بدان معناست که صنعت تولید تراشه های رایانه ای با فروش میانگین 250 میلیارد دلار در سال، همچنان پر رونق خواهد بود.با توجه به کشف جدید دو شرکت «اینتل» و «آی بی ام»، این دو شرکت و همچنین سایر تولیدکنندگان تراشه های رایانه ای می توانند نسل بعدی تراشه ها را با مدارهایی با ضخامت تنها 45نانومتر تولید کنند. پیشرفته ترین تراشه های فعلی دارای مدارهایی به ضخامت 65نانومتر هستند. هر نانومتر برابر با یک میلیاردم متر است و یک مدار 45نانومتری دو هزار برابر از یک تار موی انسان نازکتر است.«استیو اسمیث» یکی از مدیران ارشد شرکت «اینتل» اعلام کرد که پردازنده های تولید شده با استفاده از فناوری جدید در مقایسه با قدرتمندترین پردازنده های فعلی این شرکت کارایی بسیار بالاتری خواهند داشت. شرکت «آی بی ام» نیز که به طور همزمان به فناوری مشابهی دست یافته است این فناوری را در آینده نزدیک در اختیار شرکای تجاری خود از جمله شرکت «ای ام دی»(دومین سازنده پردازنده های رایانه ای پس از «اینتل») و نیز شرکت ژاپنی «توشیبا» قرار خواهد داد.به گفته «برنی میرسون» مدیر فناوری شرکت «آی بی ام»، پس از 40سال پیشرفت مداوم در زمینه ظریفتر شدن تراشه ها، در سالهای اخیر این نگرانی بوجود آمده بود که مدارهای تراشه ها در زمینه نازکتر شدن به حد پایانی خود نزدیک می شوند اما کشف اخیر نشان می دهد مدارهای تراشه های رایانه ای را می توان تا ابعاد بسیار ریز و باورنکردنی کوچک کرد. وی افزود: این فناوری علاوه بر امکان تولید نسل بعدی تراشه ها با مدارهای 45نانومتری، حتی راه را برای تولید نسل بعد از آن یعنی تراشه های 22نانومتری نیز هموار می کند.از حدود چهل سال قبل تاکنون شرکتهای سازنده تراشه های رایانه ای از ماده سیلیکون برای تولید تراشه های رایانه ای استفاده کرده اند. در آخرین نمونه های این تراشه ها، مدارهای سیلیکونی به اندازه ای کوچک شده بودند که ضخامت آنها به تنها 5اتم رسیده بود و همین امر باعث می شد برخی الکترونها هنگام حرکت در این مدارهای ظریف از مدار به بیرون نشت کنند که این امر سبب اتلاف انرژی به صورت گرما و مصرف بیشتر برق می شود.هم اکنون با استفاده از عنصر «هافنیوم»، امکان کاهش هرچه بیشتر ابعاد این مدارها بدون اتلاف انرژی درون آنها فراهم شده است که این امر به افزایش تعداد ترانزیستورهای قابل تعبیه درون تراشه ها، افزایش 20درصدی توان محاسباتی و کاهش 80درصدی اتلاف برق در آنها منجر خواهد شد. شرکت «اینتل» هنوز زمان دقیق تولید تراشه های جدید خود با استفاده از این فناوری را اعلام نکرده است.

/ 0 نظر / 13 بازدید